光刻膠作爲電子化學(xué)品中技術壁壘最高的材料，主要應用于集成(chéng)電路芯片、半導體分立器件、發(fā)光二極管(LED)、新型顯示、晶圓級先進(jìn)封裝、MEMS、印刷電路闆(PCB)以及其他涉及到圖形轉移的制程。半導體領域，目前國(guó)内集成(chéng)電路用 i 線光刻膠國(guó)産化率 10% 左右，集成(chéng)電路用 KrF 光刻膠國(guó)産化率不足 1%，ArF 幹式光刻膠、 ArFi光刻膠、 EUV 光刻膠全部依賴進(jìn)口;平闆顯示領域，目前國(guó)内OLED、高世代TFT-LCD顯示用彩色光刻膠主要依賴進(jìn)口。爲盡快推動國(guó)内高端光刻膠産業快速發(fā)展，避免産業升級受制于人，同時(shí)加強技術研發(fā)與交流，由中國(guó)電子材料行業協會(huì)、電子化工新材料産業聯盟聯合主辦，中國(guó)感光學(xué)會(huì)支持，濟南聖泉集團承辦的“2019•光刻膠先進(jìn)技術和産業應用研讨會(huì)”于2019年9月6日-8日在泉城濟南成(chéng)功舉辦。

大會(huì)現場

　　1)開(kāi)幕式

　　會(huì)議由中國(guó)電子材料行業協會(huì)常務副秘書長(cháng)、電子化工新材料産業聯盟秘書長(cháng)魯瑾主持。濟南聖泉集團研發(fā)副總裁唐磊到會(huì)并緻辭。中國(guó)感光學(xué)會(huì)、北京化工大學(xué)聶俊教授，中國(guó)科學(xué)院大學(xué)、中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所楊國(guó)強副校長(cháng)，中國(guó)感光學(xué)會(huì)輻射固化專業委員會(huì)榮譽主任、清華大學(xué)洪嘯吟教授，江蘇南大光電材料股份有限公司許從應副總裁，中芯國(guó)際北方集成(chéng)電路創新中心康勁總經(jīng)理，京東方科技集團股份有限公司趙荟鑫部長(cháng)，山東大學(xué)、國(guó)家膠體材料工程技術研究中心康文兵教授，濰坊星泰克微電子材料有限公司孫遜運董事(shì)長(cháng)，默克集團公司鄭金福産品開(kāi)發(fā)部經(jīng)理，濟南聖泉集團股份有限公司劉斌研發(fā)經(jīng)理，常州強力電子新材料股份有限公司胡春青研發(fā)總監，阜陽欣奕華材料科技有限公司黃常剛BU總經(jīng)理在會(huì)上做精彩報告。

魯瑾常務副秘書長(cháng)

　　唐磊副總裁在緻辭中指出，光刻膠在平闆顯示領域、半導體加工制造領域、PCB領域是關鍵原料，而中國(guó)目前自己能(néng)生産的比例還(hái)極其之少，而光刻膠的原料也是短闆項目。全球用于平闆顯示、IC的光刻膠市場規模達到40億美元以上，中國(guó)市場達到90億元人民币。中美貿易戰，日韓貿易戰給中國(guó)帶來了史無前例的機遇。

唐磊副總裁

　　2)主題演講

　　聶俊教授作了題爲《光聚合基礎與應用》的報告。他指出，光聚合是以光爲動力，讓單體迅速轉化爲聚合物的聚合方法，具有反應條件溫和、反應速度快、沒(méi)有三廢排放、自動化程度高、産品質量穩定、節約能(néng)源的特點，在光刻膠生産過(guò)程中廣泛應用。

聶俊教授

　　楊國(guó)強副校長(cháng)作了題爲《超高精細光刻膠研發(fā)》的報告。他指出，半導體器件的工藝節點從10μm下降到10nm，主要是因爲光刻技術的飛速發(fā)展。高檔光刻膠制造業被其他國(guó)家、地區的公司壟斷，特别是日本和美國(guó)企業在市場和專利方面(miàn)處于絕對(duì)的主導地位。對(duì)于國(guó)内發(fā)展現狀，他強調，國(guó)内光刻膠研發(fā)遠遠落後(hòu)于國(guó)内微電子制造業水平乃至國(guó)際光刻膠研發(fā)水平，無法滿足微電子産業發(fā)展需求;他指出，光刻膠已經(jīng)成(chéng)爲了國(guó)家希望重點支持的基礎電子化學(xué)品材料，系統地開(kāi)展高檔光刻膠研發(fā)及其生産工藝的研究，并有效組織相關産業化工作，對(duì)促進(jìn)我國(guó)自主發(fā)展極大規模集成(chéng)電路制造工業具有十分重要的戰略意義。

楊國(guó)強副校長(cháng)

　　洪嘯吟教授作了題爲《光刻膠基礎和無顯影氣相光刻技術》的報告。他指出，多層光刻技術進(jìn)一步提高了光緻抗蝕劑的分辨率，它可以克服單層光刻中存在的襯底發(fā)射産生的駐波、基片不平引起(qǐ)的漫反射、光路中的折射和衍射等問題。提出了向(xiàng)傳統挑戰的無顯影氣相光刻技術，并指出，無顯影氣相光刻是建立在光緻誘蝕劑濃度差的基礎之上，不需顯影、圖形分辨率高、刻蝕縱寬比高，設備簡單、操作安全。

洪嘯吟教授

　　康勁總經(jīng)理作了題爲《集成(chéng)電路工藝發(fā)展對(duì)光刻膠的技術要求》的報告。他指出，随著(zhe)IC特征尺寸深亞微米發(fā)展，現有光刻膠已無法适應新的光刻工藝，光刻機的曝光波長(cháng)也在由紫外光譜向(xiàng)極紫外光、X射線發(fā)展，甚至采用非光學(xué)光刻，光刻膠産品的綜合特性也必須随之提高，才能(néng)符合集成(chéng)工藝制程的要求。半導體用光刻膠市場，國(guó)内企業份額不足30%，與國(guó)際先進(jìn)水平存在較大差距。超過(guò)80%市場份額掌握在日本住友、TOK、美國(guó)陶氏等公司手中，國(guó)内公司中，蘇州瑞紅與北京科華實現了部分品種(zhǒng)的國(guó)産化，但是整體技術水平較低，僅能(néng)進(jìn)入8英寸集成(chéng)電路生産線與LED等産線。

康勁總經(jīng)理

　　康文兵教授作了題爲《半導體及顯示器制造用光刻膠及周邊材料》的報告。他指出，光刻膠及周邊材料成(chéng)功的關鍵在于工藝控制、環境控制和操作控制，應具有實際應用開(kāi)發(fā)經(jīng)驗、量産經(jīng)驗，同時(shí)供應穩定性及成(chéng)本很重要。

康文兵教授

　　許從應副總裁作了題爲《先進(jìn)光刻膠現狀》的報告，趙荟鑫部長(cháng)作了《顯示負性光刻膠現狀》的報告，鄭金福經(jīng)理作了題爲《光刻膠技術與應用》的報告，孫遜運董事(shì)長(cháng)作了題爲《先進(jìn)封裝用光刻膠及其光刻膠技術展望》的報告，劉斌經(jīng)理作了題爲《光刻膠用聚合物概述》的報告，胡春青研發(fā)總監作了《彩色和黑色光刻膠用高感度光引發(fā)劑》的報告，黃常剛BU總經(jīng)理作了題爲《欣奕華彩色光刻膠産品進(jìn)展》的報告，報告内容豐富，前瞻性突出。

　　3)主題研讨

　　研讨環節，大家暢所欲言，各抒己見。廈門天馬、中電熊貓、鼎材科技、德納化學(xué)等企業代表對(duì)下一步國(guó)内光刻膠行業如何發(fā)展展開(kāi)了熱情讨論，給出了很多中肯的意見和建議，爲國(guó)内下一步光刻膠發(fā)展提供了很好(hǎo)的參考。

主題研讨

　　4)參觀考察

　　會(huì)議第二天，與會(huì)的七十多名代表共赴聖泉集團參觀考察。聖泉集團目前是中國(guó)平闆顯示、芯片級光刻膠、PCB油墨用配套樹脂最大的供應商，是中國(guó)電子材料行業50強、電子化工材料專業10強企業。産品主要是電子級酚醛樹脂和電子環氧樹脂。目前聖泉集團也加入了攻克國(guó)家亟需的卡脖子技術問題的陣列中，已完成(chéng)5G電路闆專用化學(xué)品研發(fā)工作，即將(jiāng)量産。聖泉還(hái)積極開(kāi)發(fā)用于半導體芯片、顯示器件配套高端電子樹脂，緻力于爲中國(guó)電子化學(xué)品領域做一份貢獻。

聖泉參觀

　　結語：

　　本次研讨會(huì)共吸引了京東方、天馬微電子、南大光電、蘇州瑞紅、北旭電子、上海新陽、阜陽欣奕華、強力新材、江蘇廣信等上下遊企業，南開(kāi)大學(xué)、北科大、北師大、北化大、深圳研究所等相關高校和科研機構共計逾90家單位，近160名代表參會(huì)，對(duì)光刻膠産業健康發(fā)展起(qǐ)到了強有力的促進(jìn)作用。作爲一個大國(guó)，我國(guó)有發(fā)展光刻膠的必要性和決心，光刻膠産業的發(fā)展，自主創新才是硬道(dào)理，期待大家攜手做強光刻膠産業。最後(hòu)衷心感謝中國(guó)感光學(xué)會(huì)和濟南聖泉集團對(duì)本次大會(huì)的鼎力支持。

(本文轉自：電子化工新材料産業聯盟)